EGRAPH 2025
EGRAPHS workshop
📍 Seoul, South Korea
🏷️ EDA
...
Days Left
📅 重要日程
Key Dates
摘要截稿
Abstract
TBD
全文截稿
Submission
2025-04-17
录用通知
Notification
TBD
会议召开
Conference
TBD
📝 简介与资源
Introduction & Resources
EGRAPH 是 EDA 领域的顶级会议。本文整理了 2025 年的最新截稿时间、投稿要求及会议信息，供科研人员参考。
EGRAPH 2025 (EGRAPHS workshop) 是 EDA 领域的学术会议。截稿日期：2025-04-17。检索类型：CCF。出版方：。本页提供官网直达、投稿指南搜索及会议详情。
📌 投稿须知 📌 Submission Guidelines
页数限制通常为 8-12 页 (正文)。
Page LimitUsually 8-12 pages.
审稿形式双盲审稿 (Double-blind)。
ReviewDouble-blind review.
格式要求需使用官方模板。
FormatOfficial template required.